企业简介
基迈克材料科技（苏州）有限公司 main business:吴江汾湖经济开发区汾杨路东侧 and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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基迈克材料科技（苏州）有限公司的工商信息
- 320584000263042
- 913205095629298153
- 存续（在营、开业、在册）
- 有限责任公司(自然人投资或控股)
- 2010年09月30日
- 庄志杰
- 5000.000000
- 2010年09月30日 至 2030年09月29日
- 苏州市吴江区市场监督管理局
- 2016年01月06日
- 吴江汾湖经济开发区汾杨路东侧
- 纳米薄膜材料研发、生产、销售；有色金属材料、稀土材料的销售、研发及产品相关咨询服务；自营和代理各类商品及技术的进出口业务（国家限定企业经营或禁止进出口的商品和技术除外）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
基迈克材料科技（苏州）有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN205653346U | 低辐射双银耐磨耐湿镀膜玻璃 | 2016.10.19 | 低辐射双银耐磨耐湿镀膜玻璃,在玻璃基片(1)表面由下到上逐层依次镀覆第一氧化锌铝膜层(2)、第一镍铬 |
| 2 | CN105800957A | 低辐射双银耐磨耐湿镀膜玻璃 | 2016.07.27 | 低辐射双银耐磨耐湿镀膜玻璃,在玻璃基片(1)表面由下到上逐层依次镀覆第一氧化锌铝膜层(2)、第一镍铬 |
| 3 | CN106222618A | SnO<sub>2</sub>掺杂ZnO溅射靶材的制备方法 | 2016.12.14 | SnO<sub>2</sub>掺杂ZnO溅射靶材的制备方法，选择粒径1‑5μm，纯度≥99.95％的 |
| 4 | CN105734507A | 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材及其热挤压优化制备方法 | 2016.07.06 | 成膜均匀的细晶镍合金旋转靶材热挤压优化制备方法,采用纯度≥99.99％的镍和纯度≥99.95％的其他 |
| 5 | CN104846341B | 难熔金属旋转靶材等温挤压生产方法 | 2017.04.12 | 难熔金属旋转靶材等温挤压生产方法,采用等温挤压工艺制备旋转难熔金属靶材需要先通过冷等静压CIP压制靶 |
| 6 | CN106380193A | MgO掺杂ZnO溅射靶材的制备方法 | 2017.02.08 | MgO掺杂ZnO溅射靶材的制备方法，按比例称取ZnO和MgO粉装入尼龙球磨罐，加入无水乙醇和玛瑙球， |
| 7 | CN106282943A | Cr<sub>2</sub>O<sub>3</sub>掺杂Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>溅射靶材的制备方法 | 2017.01.04 | Cr<sub>2</sub>O<sub>3</sub>掺杂Al<sub>2</sub>O<sub>3 |
| 8 | CN106191777A | 一种氧化铝溅射靶材的制备方法 | 2016.12.07 | 一种氧化铝溅射靶材的制备方法，选择粒径1‑5um的球形α‑Al<sub>2</sub>O<sub>3 |
| 9 | CN205651732U | 耐磨耐湿三银低辐射镀膜玻璃 | 2016.10.19 | 耐磨耐湿三银低辐射镀膜玻璃,玻璃基片(1)的表面由下而上依次逐层覆盖第一氧化锌铝膜层(2)、第一银层 |
| 10 | CN205653345U | 高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃 | 2016.10.19 | 高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃,在玻璃基片(1)上依次镀覆有第一氧化锌铝膜层(2)、第一镍铬膜层(3 |
| 11 | CN106007404A | 耐磨耐湿三银低辐射镀膜玻璃 | 2016.10.12 | 耐磨耐湿三银低辐射镀膜玻璃,玻璃基片(1)的表面由下而上依次逐层覆盖第一氧化锌铝膜层(2)、第一银层 |
| 12 | CN103861754B | 砂料自动回收循环的移动式细长工件喷砂及电弧喷涂装置 | 2016.08.24 | 砂料自动回收循环的移动式细长工件喷砂及电弧喷涂装置,包括电控箱(1)、电弧喷枪(2)、喷砂枪(3)、 |
| 13 | CN105861999A | 高纯细晶金属镍热挤压旋转靶材 | 2016.08.17 | 高纯细晶金属镍热挤压旋转靶材,生产工艺步骤主要包括：将原料镍采用真空电子束熔炼成高纯度镍锭，对镍锭进 |
| 14 | CN105837058A | 高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃 | 2016.08.10 | 高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃,在玻璃基片(1)上依次镀覆有第一氧化锌铝膜层(2)、第一镍铬膜层(3 |
| 15 | CN105693252A | 热压工艺制备硼化物溅射靶材 | 2016.06.22 | 热压工艺制备硼化物溅射靶材,制备方法流程步骤依次为：将纯度≥99.9％、粒度≤5μm的硼化物粉制成直 |
| 16 | CN105603354A | 电弧喷涂工艺制备金属锌合金靶材的方法 | 2016.05.25 | 电弧喷涂工艺制备金属锌合金靶材的方法,包括原料准备、基体准备、电弧喷涂和后加工，选取直径为Φ2.0m |
| 17 | CN205148084U | 一种新型压入式喷砂装置 | 2016.04.13 | 本实用新型涉及一种新型压入式喷砂装置，包含机体、提升装置和喷砂储砂装置；机体的上部设置有顶架，顶架上 |
| 18 | CN105463387A | 采用真空烧结工艺制备金属钨及钒钨合金靶材 | 2016.04.06 | 采用真空烧结工艺制备金属钨及钒钨合金靶材,制备工艺流程步骤依次为：选取纯度≥99.95％，粒度≤5μ |
| 19 | CN205099746U | 金属锂靶材的铸造装置 | 2016.03.23 | 金属锂靶材的铸造装置，模具(2)与不锈钢衬管(1)为套接安装的同轴的圆管，不锈钢衬管(1)位于模具( |
| 20 | CN205099745U | 溅射镀膜旋转靶材绑定的内部加热器 | 2016.03.23 | 溅射镀膜旋转靶材绑定的内部加热器，外管(5)内部安装内管(6)，而且在内管(6)之中安装加热管(2) |
| 21 | CN105385996A | 薄膜锂电池用正极材料钴酸锂靶材粉末冶金制备工艺 | 2016.03.09 | 薄膜锂电池用正极材料钴酸锂靶材粉末冶金制备工艺，对钴酸锂(LiCoO<sub>2</sub>)粉体原 |
| 22 | CN105349952A | 金属锂靶材铸造制备方法 | 2016.02.24 | 金属锂靶材铸造制备方法，根据所需尺寸准备金属锂的浇铸模具，其中，模具中部为不锈钢衬管，不锈钢衬管内用 |
| 23 | CN205045993U | 含锆基顶层溅射保护膜的镀膜玻璃 | 2016.02.24 | 含锆基顶层溅射保护膜的镀膜玻璃,膜系结构是在镀膜玻璃膜层的顶部增镀一层锆基透明导电溅射保护膜(1)， |
| 24 | CN105349951A | 采用等离子喷涂工艺制备锌合金氧化物靶材的方法 | 2016.02.24 | 采用等离子喷涂工艺制备锌合金氧化物靶材的方法，将锌合金氧化物靶材材料，经过充分混合，喷雾造粒，另选取 |
| 25 | CN105256275A | 薄膜锂电池用电解质层材料磷酸锂靶材粉末冶金制备工艺 | 2016.01.20 | 薄膜锂电池用电解质层材料磷酸锂靶材粉末冶金制备工艺，对磷酸锂粉体进行球磨、筛分处理，装模后进行冷等静 |
| 26 | CN105234829A | 一种新型压入式喷砂装置 | 2016.01.13 | 本发明公开了一种新型压入式喷砂装置，包含机体、提升装置和喷砂储砂装置；机体的上部设置有顶架，顶架上设 |
| 27 | CN105220092A | 用于液晶平板显示器镀膜的高纯铝靶材挤压处理方法 | 2016.01.06 | 用于液晶平板显示器镀膜的高纯铝靶材挤压处理方法，选取高纯实心铝锭加热使其呈半熔融状态，通过运输轨道进 |
| 28 | CN105154799A | 用于TFT平板显示器的超高纯铝板细晶靶材的制备方法 | 2015.12.16 | 用于TFT平板显示器的超高纯铝板细晶靶材的制备方法,通过轧制工艺和退火工艺，控制变形量和温度，细化晶 |
| 29 | CN105058923A | 增强镀膜玻璃耐磨和耐腐蚀性能的溅射靶材及制造方法 | 2015.11.18 | 增强镀膜玻璃耐磨和耐腐蚀性能的靶材及其制备方法，靶材的主要成分是锆基材料，靶材形状和规格不受限制，可 |
| 30 | CN105057405A | 溅射旋转靶材管靶直线度的检验和矫直方法 | 2015.11.18 | 溅射旋转靶材管靶直线度的检验和矫直方法,把管靶放置在转动轮上，把红外线探头放在管靶内中间位置；红外线 |
| 31 | CN204788279U | 溅射旋转靶材直线度检验装置 | 2015.11.18 | 溅射旋转靶材直线度检验装置,芯轴(1)一端安装数显表(5)，芯轴(1)中部安装红外线探头（2），芯轴 |
| 32 | CN105063559A | 增强光电性能Zr元素掺杂AZO靶材 | 2015.11.18 | Zr元素掺杂AZO靶材,采用粉末冶金法工艺方法，将原料粉ZrO<sub>2</sub>粉与AZO粉混 |
| 33 | CN105018890A | 真空气体保护压力烧结制备TiB<sub>2</sub>直流磁控溅射镀膜靶 | 2015.11.04 | 真空气体保护压力烧结制备TiB<sub>2</sub>直流磁控溅射镀膜靶，对纯度为99.95％的Ti |
| 34 | CN105015109A | 具有顶层透明导电保护膜结构的镀膜玻璃 | 2015.11.04 | 具有顶层透明导电保护膜结构的镀膜玻璃,顶层保护膜(1)采用靶材弧光稳定溅射，溅射过程电压波动小于1V |
| 35 | CN104907539A | 带衬管铝及铝合金旋转靶材连续铸造工艺 | 2015.09.16 | 带衬管铝及铝合金旋转靶材连续铸造工艺,包括：衬管准备、铝或铝合金熔解以及金属液浇铸成型。改善衬管表面 |
| 36 | CN204620744U | 溅射旋转靶材矫直装置 | 2015.09.09 | 溅射旋转靶材矫直装置,机架(1)内下部水平安装二个相互平行的底辊(3)，在机架(1)内上部通过压力臂 |
| 37 | CN104846341A | 难熔金属旋转靶材等温挤压生产方法 | 2015.08.19 | 难熔金属旋转靶材等温挤压生产方法,采用等温挤压工艺制备旋转难熔金属靶材需要先通过冷等静压CIP压制靶 |
| 38 | CN103071793B | 钼溅射靶材热等静压生产方法 | 2015.07.22 | 钼溅射靶材热等静压生产方法，钼材经过适当的1300℃，100～110MPa热等静压处理，在致密度提高 |
| 39 | CN203862449U | 自控集成喷砂和电弧喷涂设备 | 2014.10.08 | 自控集成喷砂和电弧喷涂设备,包括电控箱(1)、电弧喷枪(2)、喷砂枪(3)、提升机(5)、台车(13 |
| 40 | CN203833240U | 改进的螺杆式精确送粉料机 | 2014.09.17 | 改进的螺杆式精确送粉料机,机架(1)上通过称重传感器(7)悬挂安装料仓(2)，在料仓(2)下部连接输 |
| 41 | CN103861754A | 砂料自动回收循环的移动式细长工件喷砂及电弧喷涂装置 | 2014.06.18 | 砂料自动回收循环的移动式细长工件喷砂及电弧喷涂装置，包括电控箱(1)、电弧喷枪(2)、喷砂枪(3)、 |
| 42 | CN103863823A | 气流助力的螺杆式精确送粉料机 | 2014.06.18 | 气流助力的螺杆式精确送粉料机,机架(1)上通过称重传感器(7)悬挂安装料仓(2)，在料仓(2)下部连 |
| 43 | CN102286724B | 光伏吸收层溅射镀膜的铜镓合金旋转靶材及制备方法 | 2013.08.28 | 光伏吸收层溅射镀膜的铜镓合金旋转靶材及制备方法，采用5N以上高纯度铜、镓、铟原料，采用中频感应熔炼的 |
| 44 | CN102286717B | 以等离子喷涂制备圆柱形大面积镀膜靶材及方法 | 2013.07.03 | 以等离子喷涂制备圆柱形大面积镀膜靶材及方法，制备方法包括4个步骤，即喷涂粉体制取、基体准备、结合层喷 |
| 45 | CN103071793A | 钼溅射靶材热等静压生产方法 | 2013.05.01 | 钼溅射靶材热等静压生产方法，钼材经过适当的1300℃，100～110MPa热等静压处理，在致密度提高 |
| 46 | CN103060793A | 一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材 | 2013.04.24 | 一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材，采用冷喷涂方法制备难熔金属旋转溅射靶材，基管为不锈钢管， |
| 47 | CN102321871B | 热等静压生产平板显示器用钼合金溅射靶材的方法 | 2013.03.20 | 热等静压生产平板显示器用钼合金溅射靶材的方法，靶材坯体经过液压、冷等静压和热等静压连续复合压固处理， |
| 48 | CN102321871A | 热等静压生产平板显示器用钼合金溅射靶材的方法 | 2012.01.18 | 热等静压生产平板显示器用钼合金溅射靶材的方法，钼材经过适当的1000℃~1500℃，100～200M |
| 49 | CN102286724A | 光伏吸收层溅射镀膜的铜镓合金旋转靶材及制备方法 | 2011.12.21 | 光伏吸收层溅射镀膜的铜镓合金旋转靶材及制备方法，采用5N以上高纯度铜、镓、铟原料，采用中频感应熔炼的 |
| 50 | CN102286717A | 以等离子喷涂制备圆柱形大面积镀膜靶材及方法 | 2011.12.21 | 以等离子喷涂制备圆柱形大面积镀膜靶材及方法，制备方法包括4个步骤，即喷涂粉体制取、基体准备、结合层喷 |
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